提供回转窑脱硝治理技术方案和成套装备

2019-08-01259

    回转窑脱硝选择性非催化还原技术就是用NH3、尿素等还原剂喷入窑内与NOX进行选择性反应,不用催化剂,因此必须在高温区加入还原剂,而且还需要一定的停留时间。还原剂喷入窑内合适的温度区域,该还原剂(尿素)迅速热分解成NH3并与烟气中的NOX进行SNCR反应生成N2,该方法是以回转窑内为反应器。
在回转窑内这一狭窄的温度范围内、在无催化剂作用下,NH3或尿素等氨基还原剂可选择性地还原烟气中的NOX,基本上不与烟气中的O2作用,据此发展了SNCR法。在一定温度范围内,NH3或尿素还原NOX的主要反应为:
NH3为还原剂
4NH3+4NO+O2→4N2+6H2O
尿素为还原剂
NO+CO(NH2)2+1/2O2→2N2+CO2+H2O
当温度高于1100℃时, NH3则会被氧化为
4NH3+5O2→4NO+6H2O
不同还原剂有不同的反应温度范围,此温度范围称为温度窗。NH3的反应温度区为850~950℃。当反应温度过高时,由于氨的分解会使NOX还原率降低,另一方面,反应温度过低时,氨的逃逸增加,也会使NOX还原率降低。NH3是高挥发性和有毒物质,氨的逃逸会造成新的环境污染。

引起SNCR系统氨逃逸的原因有两种,一是由于喷入点烟气温度低影响了氨与NOX的反应;另一种可能是喷入的还原剂过量或还原剂分布不均匀。还原剂喷入系统必须能将还原剂喷入到窑内有效的部位,因为NOX在窑内的分布经常变化,如果喷入控制点太少或喷到炉内某个断面上的氨分布不均匀,则会出现分布较高的氨逃逸量。在直径较大的回转窑中,还原剂的均匀分布则更困难,因为较长的喷入距离需要覆盖相当大的回转窑内截面。为保证脱硝反应能充分地进行,以少的喷入NH3量达到好的还原效果,必须设法使喷入的NH3与烟气良好地混合。


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